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    CVD氣相沉積,PECVD等離子體增強氣相沉積,真空管式爐,真空感應熔煉爐,研磨拋光機,真空氣氛管式爐
    我們的優勢
    OUR ADVANTAGES

    公司實力雄厚

    公司產品質量有保障,專業的技術團隊,為技術革新與新產品開發奠定了基礎。

    科研實力

    公司專業的研發團隊,定期對公司現銷售的產品進行實際應用跟蹤,滿足客戶的使用要求,及提高產品的實際使用性能。

    產品遠銷國內外

    堅持“以用戶為中心、以人才為根本、努力實現你我共贏”的經營理念,其產品已覆蓋全國各個城市。

    完善的售后服務體系

    堅持“客戶至上、誠信至上、用心服務、盡善 盡美”的服務理念,以良好的產品質量和精湛的技術服務受到了用戶的認可。
    公司簡介
    COMPANY PROFILE

    上海添時科學儀器有限公司是一家代理國內外儀器的經銷及技術服務的專業公司。國內管式爐,退火爐,氣氛爐,真空感應熔煉爐,箱式爐,手套箱,研磨拋光機,電池測試恒溫箱,金剛石線切割機,磁控濺射儀,蒸發鍍膜,PECVD設備供應商!

    公司所涉及的產品遍布大專院校、科研單位、工廠企業、商檢、軍工、農業、食品、超市、治金礦山、建筑、石油、路橋等行業。

    主要產品:生命科學儀器,化學分析儀器,光學儀器,物性測試儀器及設備,環保設備/流量儀表,行業專用儀器,藥物檢測儀器,種子儀器,農業和食品儀器,石油儀器,煤炭儀器,測繪儀表,建筑儀器,公路儀器,地質儀器,電工儀器儀表,自動化儀表,氣象儀器,環保儀器,電教器材,無線電儀器,小型機械等。并且提供... ...

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    CVD氣相沉積的工藝原理是怎樣的?

    CVD氣相沉積是一種重要的薄膜制備技術,廣泛應用于半導體、光電子、化學傳感等領域。一、工藝原理利用氣體在高溫下分解反應產生沉積物的過程。CVD的基本原理是將一種或多種反應氣體送入反應室,在高溫下使其發生化學反應,生成固態產物并在襯底表面上形成薄膜。CVD反應需要滿足以下三個條件:1)反應氣體能夠在高溫下分解或反應;2)反應物質與襯底表面有較好的親和力;3)反應體系的化學反應符合熱力學平衡。CVD反應可以分為熱解法、氧化還原法、金屬有機化學氣相沉積法等。其中,熱解法是常見的一種CVD反應。在熱解法

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